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光刻:EUV光刻机研发难在哪?ASML数百家顶级供应商 40年时间

时间:2023-01-30 16:46:02 | 来源:

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在半导体设备中,光刻机是核心设备,决定了工艺的先进程度,EUV是当前最先进的光刻机,可以制造7nm以下的工艺,全球仅有荷兰ASML公司能够生产,单价将近10亿元,下一代EUV甚至超过25亿元。

研发EUV光刻机到底有多难?全球还有别的公司可以制造出来吗?对于这样的疑问,ASML公司日前在财报会议上谈到了EUV的难点。

ASML表示,就ASML而言,它由数百个供应商组成,每个供应商在什么方面都是世界级的。

只要提到通快、蔡司和VDSL的名字,他们的工作就是世界级的,这只是上百家供应商中的三个。

研发光刻机需要的不止是专利,它的诀窍是人,是大脑,ASML表示这些花了40年的时间。

物理学规律在全球都是一样的,但是ASML做到这一步有着数百家公司积累的专业知识,他们作为系统集成商做出了光刻机。

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